新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc

新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc

新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開的30屆國際熱處理和表面工程大會，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報告，對于國內外的嘉賓分享了我們在Hipims研究領域包括電源和應用端的新進展。

重點介紹了公司推出的“Hipims+arc”一體的電源Himsarc，在常規磁控靶上實現磁控和電弧在一個脈沖之內的放電。這樣可以進一步調控離子原子比例以及膜基界面工程和膜層結構優化。