廣州HiPIMS,低溫ITO沉積的機會!
...
新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開的30屆國際熱處理和表面工程大會,公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報告,對于國內外的嘉賓分享了我們在Hipims研究領域包括電源和應用端的新進展。...
新鉑公司CTO 2025年8月24日赴東莞麻涌鎮豪豐環保產業園參加了“電鍍金新技術”專題研討會,交流了真空鍍金的高能脈沖濺射電源及應用技術。...
12月14日,由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業大學材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業新鉑科技(東莞)有限公司聯合主辦的“2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。...
12月14日,“2024大灣區高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室聯合舉辦,由高能脈沖PVD電源的領軍企業新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
HIPiMS技術(高功率脈沖磁控濺射技術)對材料性能的影響主要體現在薄膜的微觀結構、致密度、機械性能以及功能特性等方面。...
在工業領域,像高功率脈沖激光加工設備,為實現材料切割、焊接或表面處理,其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時,幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質量的同時,有效控制熱影響區域,防止板材因過熱變形。...
在化學氣相沉積(CVD)真空鍍膜中,反應氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手,對鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
設備精度保障:使用高精度的鍍膜設備,如采用電子束蒸發或磁控濺射設備,其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監測儀,實時反饋膜層生長情況,控制提供硬件基礎。...
在石油行業,人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而,隨著石油產量的增加,也面臨著更多的挑戰,管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率(EOR)技術,生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化,...
一般來說,真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環境下,鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統的鍍膜方法相比,真空鍍膜減少了雜質和氧化的影響,從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。...
HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一種薄膜沉積技術,它利用高頻脈沖電源產生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統的直流磁控濺射(DCMS),HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質量以及更均勻的薄膜厚度等優點。因此,HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用,尤其是在制備高質量、高性能薄膜材料方面表現突出。...